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RTP-1200迷你型快速退火炉
产品详情

产地:韩国

型号:RTP-1200


RTP-1200小型真空快速退火炉(RTP/RTA)为韩国进口的快速退火炉。

该仪器:尺寸小巧,使用风冷、无须水冷,电流要求不高(3安培),性价比高,使用方便,非常适合科研院所的科研使用。


技术规格:

- 加热方式:红外卤素钨灯,600W;
- 卤素红外灯数量:4支;

- 最快升温速率:100/秒;

- 最快降温速率:50秒(1000 400);

- 最高温度:1200

- 温度精度:+/-0.3℃

- 最大样品尺寸:20 x 20mm;

- 退火环境:真空、惰性气体、空气、其他工艺气氛(如氧气、氢气等);

- 真空泵及极限压力:机械泵,10-3Torr水平(选配);

- 电压:220 V,单相;

- 仪器尺寸:400*300*450mm (W*D*H);

- 质量:净重30Kg;


仪器特点:

- 可在真空/不同气氛/空气不同环境下,对样品进行快速热处理;

- 温控精度高;

- 适合高校或研究所科研使用;

- 无须额外的冷却系统;

- 紧凑的台式设计;

- 仪器操作方便,样片装取容易;

- 价格合理,高性价比;


应用领域:

- 快速热退火 (Rapid Thermal Annealing,RTA);

- 快速热氧化 (Rapid Thermal Oxidation,RTO);

- 快速热氮化 (Rapid Thermal Nitridation,RTN);

- 硅化 (Silicidation);

- 扩散 (Diffusion);

- 化合物半导体退火 (Compound Semiconductor Annealing);

- 离子注入后退火 (Implant Annealing);

- 电极合金化 (Contact Alloying);

- 晶化和致密化 (Crystallization and Densification);

- 合金熔点分析;

- 薄膜沉积;

   等等…

参考用户:

北京大学、天津大学、吉林大学、西安交通大学、南京大学、湖南大学、中科院北京纳米能源所、中科院苏州纳米所、苏州新磊半导体等...



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