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光刻机
光刻机
产品详情


光刻机 / 紫外曝光机  Mask Aligner

产地:美国, 韩国;

型号:M 200, M-150;


技术规格:

1)  样品台

     X/Y移动范围:+/-10mm ;

     Z移动范围:1500um ;

   千分尺:0.001”, 0.0001” ;

   旋转:+/-3.5° ;

2)   模板尺寸:最大9” X 9” ;

3)   光源尺寸:最大8” X 8” ;

4)   光源功率

    紫外:200W, 350W, 500W, 1000W, 2000W ;

    深紫外:500W, 1000W, 2000W ;

5)   曝光时间调节器:1 ~ 999(精度1)0.1 ~ 99.0(精度0.1)

6)   尺寸:高度(940mm) X 宽度(788mm) X 深度(635mm);重量:250磅;


仪器特点:

1)  模板夹具、衬底夹具,易于更换;

2)  对准精度:优于1um

3)  选配的背面光刻对准精度:3-5um

4)  紫外光源波长可快速改变;

5)  曝光强度控制精度:+/-2%

6)  可以选配纳米压印模块(NIL)

7)  可以选配微流控模块;


应用领域:

1)  MEMS ;

2)  纳米压印(NIL) ;

3)  微流控(Microfluidics);

4)  纳米技术;

5)  II-VIIII-V半导体器件制造;

6)  光刻工艺;

7)  LCDFED显示;

8)  MCM’s ;

9)  薄膜器件;

10)太阳能电池;

11) SAW器件;


参考用户:

广东工业大学等..


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